CVD（化学気相成長）CVD

原子レベルの薄膜積層が、デバイスの立体構造を築きます。

Process

工程の概要

CVD 工程は誘電体膜と導電性薄膜の成膜品質を担います。当社は日系 KE と MATSUSHITA の CVD 装置の販売とメンテナンスを提供し、先端ノードで求められる膜厚均一性に対応します。

Brands

日系メーカーの正規ルートで、販売とメンテナンスを一体で提供します。

CVD 成膜装置

販売 / メンテナンス

CVD 成膜装置

販売 / メンテナンス

Specifications

各ブランドの主力機種カテゴリの概要です。詳細な仕様はお見積りとあわせてご提供します。

CVD（化学気相成長）装置仕様表（参考データ。実際の内容はお見積りに準じます）
機種カテゴリ	対応ノード	主要仕様
KECVD 成膜装置	先端ノードの薄膜成膜	膜厚均一性は機種構成によります
MATSUSHITACVD 成膜装置	先端ノードの薄膜成膜	膜厚均一性は機種構成によります

※ 本表は参考データであり、評価の目安としてご利用ください。実際の機種、対応ノード、仕様は正式なお見積りに準じます。

AI Integration

2024–2026 年に公開された代表的モデルをベンチマークし、装置導入とあわせて提供します。

DeepONet＋KAN＋GMRES による精緻化。物理情報に基づく学習でシミュレーションデータ不要

MAPE 0.035%、学習 -62×、メモリ -31×

熱と IR を統合した Encoder-Decoder CNN

平均 IR 誤差 0.053mV

Service Flow

調達から検収まで、単一窓口が全工程に責任を持ちます。

CVD（化学気相成長）（CVD）の新品・中古装置の評価、仕様確認、解体・据付と輸送のお見積りを承ります。お気軽にメールでお問い合わせください。