Process
工艺说明
掩模版是先进节点成本与精度的制高点。我们提供日系 NUFLARE 与 JEOL 掩模版工艺设备（电子束直写等）的销售与维护。
Brands
代理品牌
日系原厂正式渠道，销售与维护一体服务。
NUFLARE
电子束直写设备
销售 / 维护
JEOL
电子束直写设备
销售 / 维护
Specifications
设备规格表
各品牌主力机型类别概览，完整规格随报价提供。
| 机型类别 | 适用节点 | 关键规格 |
|---|---|---|
| NUFLARE电子束直写设备 | 先进节点掩模 | 直写精度与缺陷率依机型配置 |
| JEOL电子束直写设备 | 先进节点掩模 | 直写精度与缺陷率依机型配置 |
AI Integration
AI 整合
对标 2024–2026 公开发表的代表模型，随设备导入。
ILT 逆光刻技术
逆向设计生成掩模图形，GPU 加速收敛
先进节点掩模优化
LithoDreamer
生成式掩模优化与工艺窗口探索
掩模设计迭代加速
SEMVision H20
e-Beam 复检深度学习分类
3× 复检速度，已导入 2nm/GAA
Service Flow
服务流程
从采购到验收，单一窗口全程负责。
- 1采购
- 2拆装机
- 3运输
- 4装机
- 5验收