フォトリソグラフィ工程Lithography

先端リソグラフィの起点。世代ごとの線幅の限界を定義します。

Process

工程の概要

フォトリソグラフィ工程は先端プロセスの心臓部であり、露光装置とコータ／デベロッパの精度が線幅と重ね合わせ精度を直接左右します。当社はナノインプリントなどの先進技術も含め、日系主力露光装置の全ラインアップの販売とメンテナンスを提供します。

Brands

日系メーカーの正規ルートで、販売とメンテナンスを一体で提供します。

露光装置フルラインアップ

販売 / メンテナンス

露光装置フルラインアップ（ナノインプリント NIL を含む）

販売 / メンテナンス

コータ／デベロッパ

販売 / メンテナンス

コータ／デベロッパ

販売 / メンテナンス

Specifications

各ブランドの主力機種カテゴリの概要です。詳細な仕様はお見積りとあわせてご提供します。

フォトリソグラフィ工程装置仕様表（参考データ。実際の内容はお見積りに準じます）
機種カテゴリ	対応ノード	主要仕様
NIKON露光装置フルラインアップ	先端ノード 2nm／GAA まで	線幅と重ね合わせ精度は機種構成によります
CANON露光装置フルラインアップ（ナノインプリント NIL を含む）	先端ノード 2nm／GAA まで	線幅と重ね合わせ精度は機種構成によります
TELコータ／デベロッパ	先端ノード 2nm／GAA まで	線幅と重ね合わせ精度は機種構成によります
DNSコータ／デベロッパ	先端ノード 2nm／GAA まで	線幅と重ね合わせ精度は機種構成によります

※ 本表は参考データであり、評価の目安としてご利用ください。実際の機種、対応ノード、仕様は正式なお見積りに準じます。

AI Integration

2024–2026 年に公開された代表的モデルをベンチマークし、装置導入とあわせて提供します。

生成 AI によるリソグラフィモデル。露光条件の探索とプロセスウィンドウ最適化に対応

プロセスウィンドウ探索の効率を大幅に向上

逆設計によりフォトマスクパターンを生成。GPU 加速で収束し、先端ノードの OPC 要件に対応

先端ノードのフォトマスク最適化

レイアウトのホットスポット検出、8 ヘッドのグラフアテンションネットワーク

画像ベース手法比でメモリを 5–12× 削減

e-Beam レビューの深層学習分類、量産ラインでの継続学習

レビュー速度 3×、2nm/GAA に導入済み

Service Flow

調達から検収まで、単一窓口が全工程に責任を持ちます。

フォトリソグラフィ工程（Lithography）の新品・中古装置の評価、仕様確認、解体・据付と輸送のお見積りを承ります。お気軽にメールでお問い合わせください。