Process
工艺说明
清洗段控制晶圆表面的颗粒与金属污染，是良率的隐形守护者。我们提供日系 DNS 与 TEL 晶圆清洗设备的销售与维护。
Brands
代理品牌
日系原厂正式渠道，销售与维护一体服务。
DNS
晶圆清洗设备
销售 / 维护
TEL
晶圆清洗设备
销售 / 维护
Specifications
设备规格表
各品牌主力机型类别概览，完整规格随报价提供。
| 机型类别 | 适用节点 | 关键规格 |
|---|---|---|
| DNS晶圆清洗设备 | 全节点适用 | 颗粒与金属污染控制依机型配置 |
| TEL晶圆清洗设备 | 全节点适用 | 颗粒与金属污染控制依机型配置 |
AI Integration
AI 整合
对标 2024–2026 公开发表的代表模型，随设备导入。
TSMC 智能制造
RNN＋联邦学习的 FDC 时序异常检测
良率影响预测 ~92%、逃逸率 -15%
PDNNet
GNN＋CNN 异构动态 IR 分析，支持工艺电性关联分析
NMAE 改善 39.3%、545× 加速
Service Flow
服务流程
从采购到验收，单一窗口全程负责。
- 1采购
- 2拆装机
- 3运输
- 4装机
- 5验收