Process
製程說明
水洗段控制晶圓表面的微粒與金屬污染，是良率的隱形守護者。我們提供日系 DNS 與 TEL 晶圓水洗設備的銷售與維護。
Brands
代理品牌
日系原廠正式管道，銷售與維護一體服務。
DNS
晶圓水洗設備
銷售 / 維護
TEL
晶圓水洗設備
銷售 / 維護
Specifications
設備規格表
各品牌主力機型類別概覽，完整規格隨報價提供。
| 機型類別 | 適用節點 | 關鍵規格 |
|---|---|---|
| DNS晶圓水洗設備 | 全節點適用 | 微粒與金屬污染控制依機型配置 |
| TEL晶圓水洗設備 | 全節點適用 | 微粒與金屬污染控制依機型配置 |
AI Integration
AI 整合
對標 2024–2026 公開發表之代表模型，隨設備導入。
TSMC 智慧製造
RNN＋聯邦學習的 FDC 時序異常偵測
良率影響預測 ~92%、逃逸率 -15%
PDNNet
GNN＋CNN 異構動態 IR 分析，支援製程電性關聯分析
NMAE 改善 39.3%、545× 加速
Service Flow
服務流程
從採購到驗收，單一窗口全程負責。
- 1採購
- 2拆裝機
- 3運送
- 4裝機
- 5驗收