倍特爾科技のロゴ倍特爾科技
イオン注入(Ion Implant)装置のイメージ

← プロセス装置一覧

05

イオン注入Ion Implant

ドーピング濃度をナノレベルで制御し、デバイスの電気的特性を決定づけます。

Process

工程の概要

イオン注入工程はデバイスチャネルの不純物分布を決定します。当社は日系 ULVAC と NISSIN の 2 社によるイオン注入装置の販売とメンテナンスを提供します。

Brands

取扱ブランド

日系メーカーの正規ルートで、販売とメンテナンスを一体で提供します。

ULVAC

イオン注入装置

販売 / メンテナンス

NISSIN

イオン注入装置

販売 / メンテナンス

Specifications

装置仕様表

各ブランドの主力機種カテゴリの概要です。詳細な仕様はお見積りとあわせてご提供します。

イオン注入装置仕様表(参考データ。実際の内容はお見積りに準じます)
機種カテゴリ対応ノード主要仕様
ULVACイオン注入装置全ノードのドーピング工程ドーズ量とエネルギー範囲は機種構成によります
NISSINイオン注入装置全ノードのドーピング工程ドーズ量とエネルギー範囲は機種構成によります
※ 本表は参考データであり、評価の目安としてご利用ください。実際の機種、対応ノード、仕様は正式なお見積りに準じます。

AI Integration

AI 統合

2024–2026 年に公開された代表的モデルをベンチマークし、装置導入とあわせて提供します。

BPINN-EM-Post

ベイズ PINN。Korhonen PDE の物理残差+観測値により不確実性を定量化

PINN の過学習を克服し、多配線セグメントの寿命分布に対応

Dey et al. 10 層 NN

J、L、T、IR Drop の回帰+MTTF 分類

MTTF 予測は厳密モデル並みの精度を保ちつつ大幅に高速化

Service Flow

サービスフロー

調達から検収まで、単一窓口が全工程に責任を持ちます。

  1. 1調達
  2. 2解体
  3. 3輸送
  4. 4据付
  5. 5検収

この工程の装置リストとお見積りをご請求ください

イオン注入(Ion Implant)の新品・中古装置の評価、仕様確認、解体・据付と輸送のお見積りを承ります。お気軽にメールでお問い合わせください。